服务热线:
您的位置: 主页 > 行业资讯 >

光刻胶项目取得重大突破 上海新阳上半年净利润增3倍

来源:互联网   发布日期:2021-08-20 16:09   浏览量:

  作为光刻胶热门概念股,上海新阳受益于国产替代以及半导体行业高景气度。今年上半年,公司实现净利润同比增长约3倍,晶圆制造用电镀液及清洗液等超纯化学产品营业收入大幅增长,光刻胶项目也取得了突破。另外,记者注意到,公司所持的中芯国际带来的公允价值收益贡献了约六成净利润。

光刻胶

  氮化硅蚀刻液已取得批量化订单

  上半年,公司实现营业收入4.37亿元,同比增长45.78%;实现净利润1.08亿元,同比增长316.82%;扣非后净利润4461.93万元,同比增长近八成。基本每股收益0.3624元/股。

  从利润来源来看,公司所持中芯国际的公允价值收益贡献了超过一半净利润。据披露,由于公司通过青岛聚源参与的中芯国际战略配售,报告期内公允价值变动收益实现7438.54万元, 影响净利润6322.76万元。

  不过,公司经营活动现金流净额同比下降约三成。

  上海新阳表示,报告期内公司晶圆制造用电镀液及清洗液等超纯化学产品营业收入大幅增长。分产品来看,电子化学材料配套设备增长最快,实现营收4470万元,同比劲翻倍,毛利率达到45%;电子化学材料营收达1.73亿元,同比增长近五成。

  目前公司在半导体传统封装领域功能性化学材料销量与市占率全国第一,在集成电路制造关键工艺材料领域芯片铜互连电镀液及添加剂、蚀刻后清洗液已实现大规模产业化。

  其中,公司原创的氮化硅蚀刻液产品打破垄断,订单持续增长 公司承担的国家科技专项原创产品、用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液已经取得批量化订单,累计收到订单3000余万元,实现销售1350余万元,打破了该产品一直以来被国外公司垄断的状况。公司与客户合作开发的下一代产品,也已进入批量化测试阶段,公司将持续联合客户共同开发更高等级的蚀刻液产品。

  另外,公司自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证,并成功取得订单,光刻胶项目取得重大突破;公司用于存储器芯片的原创新产品氮化硅蚀刻液打破国外垄断与封锁,顺利通过客户验证并实现产业化销售。

  报告期内,公司光刻胶项目投入和国家重大科技项目实施,增加的研发支,公司研发投入同比增长1.6倍至7653.95万元,占营业收入的比重为17.5%,其中半导体业务研发投入占比约三成。

  加码光刻胶项目

  今年4月份,上海新阳定增发行2273万股,募集资金约8亿元;另外发行中期票据(高成长债)1亿元。用于晶圆制造用高端光刻胶、蚀刻液 等项目的开展及第二生产基地项目的建设提供了充足的资金。

  上海新阳表示,在全球正面临缺少芯片的困境下,市场对于芯片的需求空前旺盛,随着下游客户芯片产能的逐步扩大,公司发行股份及债券募集资金的到位,能加速推进公司光刻胶及其他芯片制造关键工艺材料的开发及产业化,加快关键领域材料产品的进口替代,解决国家迫切需求。

  同日,上海新阳披露与上海超成科技有限公司签署了《股权转让协议》。公司将支付4800万元受让由超成科技转让的上海芯刻微材料技术有限责任公司(简称“芯刻微”)32%股权。目前芯刻微系上市公司的参股子公司,主要进行ArF浸没式光刻胶项目的研发。转让完成后,上海新阳持有芯刻微70%股权,超成科技持有芯刻微30%股权。

  今年3月,子公司芯刻微已经购得ASMLXT1900Gi型二手光刻机一台,据了解,该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶;另外,上海新阳自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来,安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备,该光刻机已于2020年底前运抵国内。该光刻机设备已经在今年3月份进入合作方北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司场地,后续将进行安装调试等相关工作。

  民生证券近期研究指出,上海新阳是国内唯一超纯电镀液供应商,是半导体制造用芯片表面处理功能性化学品领军企业之一,现已实现电镀、清洗、研磨、光刻胶四大产品线布局,多产品处于快速放量前期。公司是国内唯一能够满足28-90nm晶圆制造技术节点的超纯电镀液供应商和主流的清洗液供应商,下游客户覆盖中芯、华虹、长存、长鑫等主流厂商,电镀、清洗的超纯产品合肥一期新产能1.5万吨/年,将于2022年初投产,在供不应求背景下,打开公司产能瓶颈,超纯产品有望实现快速增长。另外,公司是存储客户的氮化硅蚀刻液产品的国内独家供货商,该产品为公司独家研发成果,进一步丰富上量产品矩阵,拓展业绩动力源。